设备无大漏的情况下连续性磁控溅射镀膜时真空度上升很快是什么原因？

更新时间2018-04-02 06:34:28

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。